导语
在微纳加工、半导体光刻、医疗激光等高精度领域,星空彩票娱乐app下载的耐损伤性和高反射率直接决定产品的产能与成本。Acton光学推出的 e‑Design(高能量密度‑低重复率)与XL‑Design(低能量密度‑高重复率)双系列激光镜面,凭借创新的层间电场强度(EFI)分布技术,显著提升激光耐受性,提供96‑98% 的超高反射率,已成为业界标配。本文将为您拆解这些技术亮点,帮助您快速匹配合适的光学方案。
一、核心技术亮点
1. e‑Design —— 高能量密度‑低重复率的防护拉满
• 适用频率:≈200 Hz
• 核心原理:通过在多层结构中分散EFI峰值,降低单层电场强度,显著抑制EFI引发的损伤。
• 效果:激光损伤阈值提升,涂层寿命延长,在193 nm波段实现 ≥98% 反射率(M193‑FRe‑系列)。
2.XL‑Design —— 低能量密度‑高重复率的稳定输出
• 适用频率:4‑5 kHz
• 核心原理:混合结构 + 平衡应力 设计,抑制微缺陷导致的灾难性破坏,防止高重复率下的脱水效应。
• 效果:在较高重复率条件下仍保持 ≥96% 反射率(M193‑FRXL‑系列),并通过MIL‑SPEC 附着力、耐磨、耐湿 测试。
3.全波段覆盖,单元化产品编号一键匹配
• 波长范围:126 nm ~ 353 nm(包括VUV、UV、深紫外)。
• 典型反射率:
126 nm ≥ 55%
157 nm ≥ 89%
193 nm e‑Design ≥ 98% / XL‑Design ≥ 96%
353 nm ≥ 99%
• 标准尺寸:1″、2″ 直径,多种厚度可选,兼容 Acton 标准基底 / 定制基底 / 客户自供材料。
4.高性能分束器 & 衰减片
• 多层介电低吸收涂层,适用于 10%‑90% 不同透射比例。
• 支持 随机偏振 / P偏振 / S偏振 定制,满足 医学、半导体、微加工 多场景需求。
5.超宽带 Al+MgF2 镀膜(120‑190 nm)
• ≥78%(120 nm) 、≥87%(190 nm) 的宽带反射率。
• 适用于 VUV光谱仪、Ellipsometry、空间应用 等高灵敏度仪器。
二、为何选择 Acton光学?

【强烈推荐】若您仍在为激光镜面寿命短、反射率不足而烦恼,Acton Optics 的涂层技术是提升产线效率、降低维护成本的优秀方案。
三、产品选型快速指南
1.确定激光波长 & 重复率
• 193 nm & ≈200 Hz → 选 e‑Design(M193‑FRe‑系列)
• 193 nm & 4‑5 kHz → 选 XL‑Design(M193‑FRXL‑系列)
2.选择基底尺寸
• 1″ 适用于小孔径系统
• 2″ 适合大口径高功率激光
3.确认需求的反射率或透射比例
• 高反射需求 → 选对应波段的 FR/FR45 系列。
• 分束/衰减需求 → 参考 P10‑P90 系列分束器编号(如 M193‑P5045‑1D‑MB)。
4.特殊环境(如真空、潮湿)
• 需防潮、耐磨 → 选 MIL‑SPEC 通过 的 XL‑Design。
【操作提示】在下单前,请提供激光波长、工作角度(0°/45°)、基底材料(如 Fused Silica、CaF2)与尺寸要求,我们的工程师将为您完成一键匹配。
四、真实案例分享
案例一:半导体光刻厂
• 痛点:193 nm 高功率激光导致镜面频繁更换,产能下降 15%。
• 方案:采用 Acton e‑Design(M193‑FRe‑1D‑MB)镜面,配合定制 45° 入射角。
• 结果:镜面寿命提升 3 倍,反射率保持在 98% 以上,整体产能恢复 12% 以上。
案例二:生物医学微加工
• 痛点:10%‑90% 可变衰减需求频繁更换分束器,导致工艺不稳定。
• 方案:使用 Acton 可定制 P‑系列分束器(如 M157‑P5045‑2D‑MB),实现 P偏振 优化。
• 结果:功率调节响应时间 < 5 ms,工艺重复性提升 30%。
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